假设演练：反光零件外观检测

假设应用演练：说明条件、实际路线和判断方法，非已交付客户案例。

任务与实施方法

假设金属零件在同一缺陷位置出现强反光，算法结果随摆放改变。演练先记录光源、镜头和曝光，不先换模型；用相同物件在允许位置范围采集，保存良品、缺陷和无法判断的原图。

路线一保留现有算法，先用真实样件比较照明角度、曝光与漫射条件，目标是让原图中的缺陷稳定可判。路线二在图像信息足够且标签明确后，再调整判定或学习模型，增加数据与验证工作。若细节已饱和或模糊，换模型不应被当作首选补救；漫射也要检查是否同时弱化所需缺陷对比。

固定相机、镜头和原始配置，使用同一批良品、缺陷与争议样件，在允许摆放范围采集。保存原图而非只保框图，每次只改一个有依据的光学条件。将物件或批次作为独立划分单位，配置冻结后再验证，不把同一物件近似图同时用于调试和独立评价。漏检、误报和无法判断分别计数。

演练假设1000个良品与10个缺陷全部判良，总体正确率仍约99.01%，却漏掉全部缺陷，因此不能按总体百分比选择方案。若漫射使良品反光减少却同时看不见细划伤，就不能仅选更均匀的画面；需回到任务对比。若原图可判而结果仍错，再进入标签和算法分支，保留独立批次的全部结果。

同一物件的多张图与独立物件数量分列，无法判断保留人工入口，不为提高百分比删除边界样本。

若细节在原图中已经饱和或模糊，返回光学条件；若图像可判而输出不稳，再看标签与模型。验收分别报告漏检、误报和不可判断，关联到独立批次样本。此为原创验证计划，没有对应客户工厂或已经测得的准确率。

同一物件多张图与独立物件数量分列，边界缺陷交人工复核规则处理，不能为了好看的比例剔除所有难例。

多方向或漫射照明可用于减少反光干扰、使反射件成像更均匀。[S3][S4] 同时也要检查某些靠方向性反射出现的缺陷是否被弱化。选择不是把眩光全部去掉就结束，而是让目标特征稳定、非目标变化受控；光源改变后，算法和阈值都要用独立样本复查。

1. 缺陷与争议判据及物件编号
2. 光源相机曝光和摆放范围
3. 独立批次原图及错误分母

产品、场景、条件与期望结果，我们一起梳理。